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光谱椭偏仪

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产品名称: 光谱椭偏仪
产品型号: SE-VE
产品展商: 其它品牌
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简单介绍

SE-VE椭偏仪是基于单旋转补偿器调制技术一次性获取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光谱,可实现基底上单层到多层薄膜的膜厚、光学常数的快速分析表征。

光谱椭偏仪的详细介绍

一、目的

本设备基于单旋转补偿器调制技术一次性获取Psi/DeltaN/C/S、反射率等光谱,可实现基底上单层到多层薄膜的膜厚、光学常数的快速分析表征。

 

二、测量系统规格

SE-VE光谱椭偏仪技术参数

  1. 椭偏仪测头规格:

  1. 光谱范围:400-800nm

  2. 入射角:65°

  3. 斑大小:2-3mm

  4. 调制技术:PCRSA调制技术

  5. 膜厚重复性测量精度:0.05nm100nm 硅基SiO2样件,30次重复测量1σ

  6. 折射率测量精度:0.001100nm 硅基SiO2样件,30次重复测量1σ

  7. 膜厚测量范围:0.1nm10μm

  8. 单点测量时间:5s

  9. 光源:高性能进口卤素灯光源(卤素灯寿命:2,000h

  10. 可视化样品显微对准系统

     

    1光谱椭偏测头原理图

     

    2  SE-VE光谱椭偏仪实物图

  1. 样品台规格:

  1. 基板尺寸:*大支持样件尺寸到8inch晶圆 可定制

  2. Z位移行程0-10mm

  3. 样件台俯仰角度> ±2°

  1. 测控与分析软件

  1. 光谱测量能力:PSI/DELTA椭偏光谱、N/C/S光谱反射率光谱测量

  2. 数据分析能力:具备单层、多层膜厚、光学常数(折射率、消光系数)分析能力

  3. 支持常用光学常数模型以及常用振子模型(柯西模型、洛伦兹模型、高斯模型等),并支持图形化多振子混合模型拟合功能

  4. 支持多组分薄膜与体材料光学常数、组分比例分析功能; 核心算法包含严格耦合波模型、等效介质模型

  5. 支持用户自定义,软件不限制拷贝数量,支持windows10操作系统

  1. 测控与分析计算机

  1. 操作系统:WIN10  64

  2. CPU处理器:Intel 酷睿I3

  3. 内存:4G

  4. 硬盘:500G

  5. 显示器:19

  1. 配件

  1. 标准SiO2/Si标样

  2. 标准安装工具一套

  1. 环境要求

  1. 椭偏仪承载台:尺寸>1.5m(长)× 1.0 m(宽),承载能力大于50Kg(建议光学隔振)

  2. 使用温度范围:20 ~ 26

  3. 相对湿度:35% ~ 60% RH

  4. 空气压力范围:750~1014 mbar

  5. 洁净度: Class 10000

  1. 能源要求

  1. 供电电源电压:220V AC

  2. 正常频率范围:49-51Hz

  3. 相电流:有效值小于0.5A220V AC

  4. 功率:小于110 W

  1. 涂装与表面处理

  1. 涂装颜色:以黑色为主

  2. 表面处理:镀化学镍、阳极处理、烤漆等

  1. 质保与售后服务

  1. 整机硬件质保期为12个月。在质保期内出现各类故障供方及时免费维修,对非人为造成的各类零件损坏,及时免费更换

  2. 测控与分析软件:终身免费升级,数据分析软件提供不限量拷贝

  3. 为用户提供**充分仪器操作与数据分析培训

  4. 提供终身免费数据建模与分析技术支持,为用户提供不限量样件材料光学常数标定与模型库升级服务

  5. 供方在接到故障报修信息后,供方维修人员4小时内电话响应,*晚48小时内供方服务工程师进行****维修

     

     

     

     

     

     

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